MASK BLANK TRANSFER MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASKS,申请号KR20177001569-传众专利搜索

MASK BLANK TRANSFER MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASKS

申请公布号：KR20170010900(A)

申请号：KR20177001569

申请日期：2010.06.17

申请公布日期：2017.02.01

申请人：

호야 가부시키가이샤

发明人：노자와, 오사무;이와시따, 히로유끼;하시모또, 마사히로;고미나또, 아쯔시

分类号：G03F1/50;G03F1/58;G03F1/72;G03F1/74;G03F1/80

主分类号：G03F1/50

摘要：EB 결함 수정을 바람직하게 적용할 수 있고, 또한 차광막의 박막화를 가능하게 하는 마스크 블랭크를 제공한다. ArF 노광광이 적용되는 전사용 마스크를 작성하기 위해서 이용되며, 투광성 기판(1) 상에 차광막(2)을 갖는 마스크 블랭크(10)로서, 차광막(2)은, 천이 금속 및 규소에 산소 및 질소로부터 선택되는 적어도 1개 이상의 원소를 더 함유하는 재료를 주성분으로 하는 하층과, 천이 금속 및 규소에 산소 및 질소로부터 선택되는 적어도 1개 이상의 원소를 더 함유하는 재료를 주성분으로 하는 상층의 적어도 2층 구조로 이루어진다. 대상 부분에 불소를 함유하는 물질을 공급하고, 하전 입자를 조사하여 행하는 에칭에서의 상층의 에칭 레이트에 대한 하층의 에칭 레이트의 비가 1.0 이상 20.0 이하이다.