适用于图案化之蓝宝石基板结构及图案化蓝宝石基板形成方法;SAPPHIRE SUBSTRATE STRUCTURE SUITABLE FOR PATTERN ETCHING AND PATTERN SAPPHIRE SUBSTRATE GENERATION METHOD THEREOF,申请号TW102107725-传众专利搜索

适用于图案化之蓝宝石基板结构及图案化蓝宝石基板形成方法;SAPPHIRE SUBSTRATE STRUCTURE SUITABLE FOR PATTERN ETCHING AND PATTERN SAPPHIRE SUBSTRATE GENERATION METHOD THEREOF

申请公布号：TW201436284

申请号：TW102107725

申请日期：2013.03.05

申请公布日期：2014.09.16

申请人：

德晶科技股份有限公司

发明人：黄永发

分类号：H01L33/22(2010.01)

主分类号：H01L33/22(2010.01)

代理人：<name>杨长峯</name><name>李国光</name><name>张仲谦</name>

地址： PHECDA TECHNOLOGY CO. LTD. 台北市大安区罗斯福路3段171号12楼之1 TW

摘要：一种适用于图案化之蓝宝石基板结构及图案化蓝宝石基板形成方法。图案化之蓝宝石基板适用于作为发光元件之基板。蓝宝石基板结构包括一光阻层、一光阻下层及一蓝宝石基板。光阻层为一均质层,其材质为G线光阻、I线光阻、248 nm DUV光阻或193 nm Arf光阻,且具有一平坦表面。光阻下层为一均质层,其材质为有机化合物或无机化合物,且具有一平坦表面。蓝宝石基板系使用长晶技术所形成,光阻层及光阻下层系使用涂布技术所形成。在蓝宝石基版结构形成后,依序藉由一曝光/显影程序、一蚀刻程序及一清除程序使蓝宝石基板结构逐步转换成为图案化蓝宝石基板。