一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统,申请号CN201210576850.7-传众专利搜索

一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统

申请公布号：CN103034074A

申请号：CN201210576850.7

申请日期：2012.12.26

申请公布日期：2013.04.10

申请人：

清华大学

发明人：张鸣;朱煜;成荣;徐登峰;刘召;王婧;田丽;杨开明;胡金春;尹文生;穆海华;刘昊;胡楚雄

分类号：G03F7/20(2006.01)I

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

代理机构：

北京鸿元知识产权代理有限公司 11327

代理人：邸更岩

地址：100084 北京市海淀区北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室

摘要：一种带有浸液回收装置的光刻机双台交换系统，该系统含有基台，两个硅片台，光学透镜系统、多轴激光干涉仪和激光干涉仪反射镜。硅片台带有浸液回收装置，硅片台上表面的一侧设有一块浸液回收板，浸液回收板的上表面与硅片台上表面共面，浸液回收板的侧面有一排小孔，小孔与硅片台外部的浸液回收容器相连接，用于浸没液体的回收，硅片台外围四边设置一套防撞气囊装置。当两硅片台完成交换时，硅片台上的浸液回收板设计保证了交换时浸液循环不用中断，提高了生产效率；气囊式防撞结构具有可伸缩性，与机械式防撞相比刚度低，且结构简单紧凑，可应用于光刻机双台交换系统。

主权项：一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统，该系统含有基座（7），两个硅片台，两个线缆台，光学透镜系统（2）和光刻浸液喷射循环装置（3），所述的光刻浸液喷射循环装置包括浸没液体（6）、浸液流出机构（4）和浸液吸收机构（5）；所述的基座（7）上设有对准工位和曝光工位，所述的硅片台上部的四个侧面均为平面反射镜，其中两个相对反射镜面下半部分还分别安装有一条45°反射镜，所述的每个硅片台的一个侧面下部安装一个线缆台，所述的线缆台沿X轴方向放置在基座（7）上，其特征在于：在所述的其中一个硅片台上安装一个浸液回收装置，所述的浸液回收装置包括一个浸液过渡板（15）、导液管、浸液回收容器（14）和抽吸泵（13）；所述的浸液过渡板（15）安装在两个硅片台任意一个上，且与线缆台相对布置，浸液过渡板（15）的上表面与硅片台上表面共面，浸液过渡板（15）上表面平滑并喷涂有不浸润涂层；所述的浸液过渡板（15）的侧面设有一排小孔，小孔与导液管连通，导液管经过线缆台与外部的抽吸泵和浸液回收容器相连通。