双面曝光装置

申请公布号：CN201820072U

申请号：CN201020290644.6

申请日期：2010.08.12

申请公布日期：2011.05.04

申请人：

志圣科技(广州)有限公司

发明人：张永裕;李冠颖

分类号：G03F7/20(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：任琳

地址：510850 广东省广州市花都区狮岭镇利和路6号

摘要：本实用新型公开了一种双面曝光装置，包含机台、曝光模组、台框模组、第一取像模组与第二取像模组；台框模组包括设置于机台的台框本体以及设置于台框本体的上底片与下底片，台框模组用以供待曝光基板放置于上底片与该下底片之间并且受驱动位移至第一位置以及第二位置；第一取像模组包括多个取像单元，取像单元用以当台框模组处于该第一位置时取得待曝光基板与台框模组的下底片的位置影像；第二取像模组包括多个取像单元，取像单元用以当台框模组处于第二位置时取得待曝光基板与台框模组的上底片的位置影像。本实用新型可提高待曝光基板的两面曝光精度。

主权项：一种双面曝光装置，其特征在于，包含：机台；曝光模组，设置于该机台内，用以对待曝光基板曝光；台框模组，包括设置于该机台的台框本体以及设置于该台框本体的上底片与下底片，该台框模组用以供该待曝光基板放置于该上底片与该下底片之间并且受驱动位移至第一位置以及对应该曝光模组的第二位置；第一取像模组，包括多个取像单元，该当该台框模组处于该第一位置时，取像单元用以取得该待曝光基板与该台框模组的下底片的位置影像；以及第二取像模组，包括多个取像单元，当该台框模组处于该第二位置时，该取像单元用以取得该待曝光基板与该台框模组的上底片的位置影像。