相位移掩模及其形成图案的方法,申请号CN200810001934.1-传众专利搜索

相位移掩模及其形成图案的方法

申请公布号：CN101477302A

申请号：CN200810001934.1

申请日期：2008.01.03

申请公布日期：2009.07.08

申请人：

南亚科技股份有限公司

发明人：傅国贵;吴元薰;王雅志

分类号：G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：彭久云

地址：中国台湾桃园县

摘要：本发明公开了一种相位移掩模以及使用此相位移掩模形成图案的方法。此相位移掩模包含玻璃基板与位于玻璃基板表面的图案、第一相位移区、第二相位移区以及第三相位移区。第一相位移区与第二相位移区彼此平行交互排列且第三相位移区位于第一相位移区的末端。

主权项：1. 一种相位移掩模，包含：基板，该基板具有图案、第一相位移区和第二相位移区，其中该图案位于该第一相位移区和该第二相位移区交界处，且该第一相位移区和该第二相位移区之间具有第一相位差，而该第二相位移区至少具有一末端；以及第三相位移区，该第三相位移区位于该基板上并设置于该第二相位移区的该末端，且该第三相位移区与该第一相位移区之间具有第二相位差。