超大台面散光曝光机,申请号CN200720054212.3-传众专利搜索

超大台面散光曝光机

申请公布号：CN201066434Y

申请号：CN200720054212.3

申请日期：2007.07.17

申请公布日期：2008.05.28

申请人：

志圣科技(广州)有限公司

发明人：夏卫平

分类号：G03F7/20(2006.01)

主分类号：G03F7/20(2006.01)

代理机构：

广州市南锋专利事务所有限公司

代理人：李永庆

地址：510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号

摘要：本实用新型公开了一种超大台面散光曝光机，包括台框、UV灯源及与UV灯源相配合的第一反射罩、第二反射罩、第三反射罩，其特征在于：还包括减速马达、线形轴承、皮带，所述减速马达通过皮带带动线形轴承转动，所述台框由减速马达通过皮带驱动，所述台框上装有两块22″×24″的PCB板，在该台框上设有多个真空吸嘴及真空泵。由于采用了上述结构，故本实用新型具有结构简单、产量高的特点。

主权项：1.一种超大台面散光曝光机，包括台框(2)、UV灯源(1)及与UV灯源(1)相配合的第一反射罩(11)、第二反射罩(12)、第三反射罩(13)，其特征在于：还包括减速马达(3)、线形轴承(4)、皮带(5)，所述减速马达(3)通过皮带(5)带动线形轴承(4)转动，所述台框(2)由减速马达(3)通过皮带(5)驱动，所述台框(2)上装有两块22″×24″的PCB板(21)，在该台框(2)上设有多个真空吸嘴(22)及真空泵。