Inspection technique of photomask
申请公布号:US6091845(A)
申请号:US19980028878
申请日期:1998.02.24
申请公布日期:2000.07.18
发明人:PIERRAT, CHRISTOPHE;BURDORF, JAMES
分类号:G01N21/956;G03F1/00;G03F7/20;G06T7/00;(IPC1-7):G06K9/82
主分类号:G01N21/956
摘要:An improved technique for inspecting photomasks employs simulated images of the resist pattern. A simulated image of an original pattern is compared to a simulated image generated from a pattern captured from a photomask manufactured from the original pattern. Alternatively, simulated images generated from captured data from two different instances of the same original pattern formed in a photomask are compared.
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