ガラス再生処理方法および再生ガラス基板とそれを用いたフォトマスクブランクスとフォトマスク,申请号JP20140538440-传众专利搜索

ガラス再生処理方法および再生ガラス基板とそれを用いたフォトマスクブランクスとフォトマスク

申请公布号：JPWO2014050700(A1)

申请号：JP20140538440

申请日期：2013.09.19

申请公布日期：2016.08.22

申请人：

大日本印刷株式会社

发明人：木下一樹;二嶋悟;青木陽祐;板倉敬二郎

分类号：G03F1/68;C03C23/00

主分类号：G03F1/68

摘要：本発明は、各種フラットパネルの生産で使用済となったフォトマスクやフォトマスク製造工程で不良となったフォトマスクを新たなフォトマスク用ガラス基板として再利用するために再生処理する方法及びこの再生処理方法で再生されたフォトマスク用ガラス基板とそれを用いたフォトマスク用ブランクスおよびフォトマスクに関するものである。再生ガラス基板の表面を従来の物理的な研磨処理を行わずに、呼気像検査で元のパターン跡が現れないように濡れ性を均一化する処理により、低コストで、欠陥の少ない再生ガラス基板を得ることを可能とする。