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CHARGED-PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND WRITING DATA CREATING METHOD

申请公布号:KR20160115747(A)

申请号:KR20160033888

申请日期:2016.03.22

申请公布日期:2016.10.06

申请人:
NUFLARE TECHNOLOGY INC.

发明人:HARA SHIGEHIRO;YASUI KENICHI;YAMASHITA HIROSHI;KATO YASUO;GOMI SAORI;SAKAMOTO SHINJI;TAMURA TAKAO;TSUCHIYA HIDEO;NAKAYAMADA NORIAKI;MATSUMOTO HIRONOBU

分类号:G03F1/20;G03F1/36;G03F1/78;G03F7/20

主分类号:G03F1/20

摘要:일 실시 형태에 따른 하전 입자 빔 묘화 장치는, 하전 입자 빔에 의해 기판 상의 묘화 영역에 패턴을 묘화하는 묘화부와, 상기 묘화 영역을 분할한 블록 단위의 도우즈량 정보를 포함하는 분할 맵이 서브프레임 단위로 파일화되어 있는 복수의 파일을 갖는 계층화 보정 맵을 갖는 계층화 보정 맵 포함 묘화 데이터가 입력되고, 묘화 데이터에 대하여 데이터 변환 처리를 행하여 샷 데이터를 생성하고, 계층화 보정 맵으로부터 묘화 대상 영역의 블록에 대응하는 분할 맵을 읽어들여서 도우즈량을 산출하고, 상기 샷 데이터 및 산출한 도우즈량에 기초하여 상기 묘화부를 제어하는 제어부를 구비하는 것이다.

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