单酸微量添加装置及方法,申请号CN200410027775.4-传众专利搜索

单酸微量添加装置及方法

申请公布号：CN100402702C

申请号：CN200410027775.4

申请日期：2004.06.19

申请公布日期：2008.07.16

申请人：

鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司

发明人：黄昌桂;黄荣龙;欧振宪;高胜洲

分类号：C23F1/08(2006.01)

主分类号：C23F1/08(2006.01)

地址：518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号

摘要：本发明公开一种单酸微量添加装置，其包括一蚀刻单元与一监测添加单元，该蚀刻单元包括一蚀刻室与一混酸槽；该监测添加单元包括一单酸测酸仪器、一单酸补充演算器及一单酸添加槽；该单酸测酸仪器与该混酸槽相连，该单酸补充演算器与该单酸测酸仪器及单酸添加槽相连，单酸添加槽又与混酸槽相连；该混酸槽、单酸测酸仪器、单酸补充演算器及单酸添加槽首尾相连并构成单酸微量添加闭合控制回路。

主权项：1.一种单酸微量添加装置，包括一蚀刻单元与一监测添加单元，该蚀刻单元包括一蚀刻室与一混酸槽；该监测添加单元包括一单酸测酸仪器，该单酸测酸仪器与该混酸槽相连；其特征在于：该监测添加单元还包括一单酸补充演算器及一单酸添加槽；该单酸补充演算器与该单酸测酸仪器及单酸添加槽相连，单酸添加槽又与混酸槽相连；该混酸槽、单酸测酸仪器、单酸补充演算器及单酸添加槽首尾相连并构成单酸微量添加闭合控制回路，该单酸测酸仪器监测该混酸槽中单酸的浓度变化和蚀刻反应生成物的浓度，当该蚀刻反应生成物的浓度未达到影响蚀刻反应速度时，该单酸补充演算器控制该单酸添加槽添加单酸到该混酸槽，使该混酸槽中的单酸浓度维持在一恒定范围内；当该蚀刻反应生成物的浓度达到影响蚀刻反应速度时，该单酸补充演算器控制该单酸添加槽添加单酸到该混酸槽，使该混酸槽中的单酸浓度超出该恒定范围。