掩膜检测装置和掩膜检测方法,申请号CN00132296.6-传众专利搜索

掩膜检测装置和掩膜检测方法

申请公布号：CN1298203A

申请号：CN00132296.6

申请日期：2000.11.28

申请公布日期：2001.06.06

申请人：

日本电气株式会社

发明人：小日向秀夫

分类号：H01L21/66

主分类号：H01L21/66

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：戎志敏

地址：日本东京都

摘要：一种掩膜检测方法,包括步骤(a),(b),(c),(d)。步骤(a)包括提供一种对具有掩膜(M)的晶片(1)形成图案的电子束曝光系统(1)。步骤(b)包括从电子束曝光系统(1)向掩膜(M)发射电子。步骤(c)包括检测发射的电子透过掩膜(M)的电子。步骤(d)包括根据步骤(c)的检测结果,检测掩膜(M)的缺陷。

主权项：1．一种掩膜检测方法，包括以下步骤：(a)提供电子束曝光系统(1)，用于对具有掩膜(M)的晶片(1)形成图案；(b)从电子束曝光系统(1)向掩膜(M)发射电子；(c)检测发射的电子透过掩膜(M)的电子；(d)根据步骤(c)的检测结果，检测掩膜(M)的缺陷。