一种用于氧化物材料体系的蚀刻液及其蚀刻方法和应用,申请号CN201410191479.1-传众专利搜索

一种用于氧化物材料体系的蚀刻液及其蚀刻方法和应用

申请公布号：CN103980905B

申请号：CN201410191479.1

申请日期：2014.05.07

申请公布日期：2017.04.05

申请人：

佛山市中山大学研究院

发明人：范冰丰;王钢;童存声

分类号：C09K13/06(2006.01)I;C09K13/00(2006.01)I;C09K13/12(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I

主分类号：C09K13/06(2006.01)I

代理机构：

深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271

代理人：孙菊梅

地址：528200 广东省佛山市南海区南海软件园信息大道崇贤楼A栋三层

摘要：本发明公开了一种用于氧化物材料体系的蚀刻液，该蚀刻液包括氧化物蚀刻溶液、起到稠度调节作用的调节剂以及水；同时本发明还公开了上述蚀刻液的蚀刻方法及应用。本发明公开的蚀刻液和蚀刻方法可普遍适用于Sn、Zn、Al、Ga、In基及其合金氧化物薄膜材料刻蚀，尤其是ZnO、AZO、GZO、IGZO、IZO等氧化物材料的刻蚀，也可广泛的用于制备精细电子部件中氧化物材料的刻蚀，例如半导体光电器件、太阳能电池、TFT薄膜晶体管、半导体集成电路和透明电极等。本发明的蚀刻液相较于传统的刻蚀液，其具有抑制侧蚀、防止刻蚀不均以及防止刻蚀残留的效果。

主权项：一种用于氧化物材料体系的蚀刻液，其特征在于：以重量计，所述蚀刻液中含有，0.01‑80wt％的磷酸盐溶液；0.1‑80wt％的聚乙二醇调节剂；余量的水。