積層薄膜構造体の製造方法、積層薄膜構造体及びそれを備えた圧電素子
申请公布号:JP2017017211(A)
申请号:JP20150133333
申请日期:2015.07.02
申请公布日期:2017.01.19
发明人:直野 崇幸;佐野 貴洋
分类号:H01L41/316;H01L41/09;H01L41/187;H02N2/00
主分类号:H01L41/316
摘要:【課題】Pb含有ペロブスカイト型酸化物膜よりも熱膨張係数の小さい振動板の両面にクラックのないPb含有ペロブスカイト型酸化物膜を備えた積層構造体とその製造方法及び圧電素子を提供する。【解決手段】振動板10の両面に下部電極膜21,22を成膜し、下部電極膜21の表面に振動板10より熱膨張係数が大きい柱状構造を有する第1のPb含有ペロブスカイト型酸化物膜31を直接成膜する第1の積層工程と、下部電極膜22の表面に第2のPb含有ペロブスカイト型酸化物膜32を直接成膜する第2の積層工程とを順次実施する。第2のPb含有ペロブスカイト型酸化物膜の成膜は、第2の積層工程後の第1のPb含有ペロブスカイト型酸化物膜31中のPbのBサイト元素に対するモル比RA1と、第2のPb含有ペロブスカイト型酸化物膜32中の同モル比RB1との差が0.056以下となる条件で実施する。【選択図】図1