一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统及工艺
申请公布号:CN105730008A
申请号:CN201610232335.5
申请日期:2016.04.14
申请公布日期:2016.07.06
发明人:张琳
分类号:B41J2/01(2006.01)I;B41J11/00(2006.01)I
主分类号:B41J2/01(2006.01)I
代理人:毕强
地址:065000 河北省廊坊市三河市燕郊开发区首钢机械厂1号院9号楼1单元602号
摘要:本发明公开了一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统及工艺,其中蚀刻掩膜喷墨直接成像系统包括喷墨打印机、图形文本点阵化输出控制模块以及蚀刻掩膜墨水。本发明公开了一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统及工艺,相比较传统的蚀刻工艺,简化了工艺操作步骤,提高了生产效率,并节省了更多的劳动成本以及劳动力。
主权项:一种蚀刻掩膜喷墨直接成像系统,其特征在于,包括喷墨打印机、图形文本点阵化输出控制模块;所述图形文本点阵化输出控制模块用于将电子图形文件处理成所述喷墨打印机的输出控制系统识别的数据信号;所述喷墨打印机包括输出控制系统、供墨装置、输出装置和掩膜固化成像装置;其中,所述喷墨打印机的输出控制系统用于接收数据信号,然后由输出控制系统根据数据分别对供墨装置、输出装置、掩膜固化成像装置对应发出具体的供墨控制工作指令、喷墨工作指令和固化工作指令;所述喷墨打印机的供墨装置用于解析上述供墨控制工作指令,得到图形图像数据量,然后向所述输出装置提供恒压恒流且足量的掩膜墨水;所述喷墨打印机的输出装置用于解析上述喷墨工作指令,将所述掩膜墨水准确地喷射到工件具体的位置上形成图像信息;所述喷墨打印机的掩膜固化成像装置用于解析上述固化工作指令,在图像信息成形后,随之对具体掩膜位置进行精准固化,在掩膜墨水由液态转为固态附着在基材表面完成蚀刻掩膜。