化学増幅ネガ型レジスト組成物、光硬化性ドライフィルム、その製造方法、パターン形成方法、及び電気・電子部品保護用皮膜,申请号JP20120255898-传众专利搜索

化学増幅ネガ型レジスト組成物、光硬化性ドライフィルム、その製造方法、パターン形成方法、及び電気・電子部品保護用皮膜

申请公布号：JP5846110(B2)

申请号：JP20120255898

申请日期：2012.11.22

申请公布日期：2016.01.20

申请人：

信越化学工業株式会社

发明人：竹村勝也;宮崎隆;浦野宏之

分类号：G03F7/038;G03F7/004

主分类号：G03F7/038

摘要：A chemically amplified negative resist composition is provided comprising (A) a resin having a crosslinking group, (B) a crosslinker, (C) a photoacid generator capable of generating an acid upon exposure to light of wavelength 190-500 nm, (D) a solvent, and (E) an isocyanuric acid. The resist composition overcomes the stripping problem that the film is stripped from metal wirings of Cu or Al, electrodes, and SiN substrates.