光纤传感器仿生分子识别纳米传感膜及其制备方法,申请号CN200710115832.8-传众专利搜索

光纤传感器仿生分子识别纳米传感膜及其制备方法

申请公布号：CN101196462B

申请号：CN200710115832.8

申请日期：2007.12.12

申请公布日期：2011.06.08

申请人：

国家海洋局第一海洋研究所

发明人：周文辉;杨黄浩;郭秀春;尹晓斐;李永;王小如;黎先春

分类号：G01N21/00(2006.01)I;G01N33/48(2006.01)I

主分类号：G01N21/00(2006.01)I

代理机构：

青岛海昊知识产权事务所有限公司 37201

代理人：张中南

地址：266061 山东省青岛市高科园仙霞岭路6号

摘要：一种光纤传感器仿生分子识别纳米传感膜及其制备方法，是具有对模板分子专一的仿生分子识别能力的传感膜，其特征在于该传感膜是生成在以二氧化硅、玻璃或石英为材料的硅基光纤的端面上的、厚度可控的、厚度范围为5～50nm的膜。传感膜的厚度是通过可逆加成-链转移自由基聚合反应时间控制，且与时间呈线性关系。制备方法包括对光纤端面进行氯硅烷衍生，将上述光纤端面的氯硅烷转化为链转移剂，再对上述端面为链转移剂的光纤进行分子印迹聚合反应，最后洗脱仿生分子识别纳米传感膜中的模板分子。本发明直接在光纤端面合成分子印迹纳米传感膜，使得传感膜的厚度达到nm级别，其灵敏度高、稳定性好，将广泛的应用在冶金、化工、环保等相关领域。

主权项：一种光纤传感器仿生分子识别纳米传感膜，是具有对模板分子专一的仿生分子识别能力的传感膜，其特征在于该传感膜是通过分子印迹技术与可逆加成‑断裂链转移自由基聚合反应而生成在硅基光纤的端面上的、厚度可控的、且厚度范围为9～50nm的膜。