High-mobility multiple-gate transistor with improved on-to-off current ratio
申请公布号:US8674341(B2)
申请号:US20090639653
申请日期:2009.12.16
申请公布日期:2014.03.18
发明人:KO CHIH-HSIN;WANN CLEMENT HSINGJEN
分类号:H01L21/336
主分类号:H01L21/336
摘要:A multi-gate transistor includes a semiconductor fin over a substrate. The semiconductor fin includes a central fin formed of a first semiconductor material; and a semiconductor layer having a first portion and a second portion on opposite sidewalls of the central fin. The semiconductor layer includes a second semiconductor material different from the first semiconductor material. The multi-gate transistor further includes a gate electrode wrapping around sidewalls of the semiconductor fin; and a source region and a drain region on opposite ends of the semiconductor fin. Each of the central fin and the semiconductor layer extends from the source region to the drain region.
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