一种光刻照明系统,申请号CN201010619062.2-传众专利搜索

一种光刻照明系统

申请公布号：CN102540752B

申请号：CN201010619062.2

申请日期：2010.12.28

申请公布日期：2014.02.19

申请人：

上海微电子装备有限公司

发明人：张祥翔

分类号：G03F7/20(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

代理机构：

北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人：王光辉

地址：201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号

摘要：一种光刻照明系统，包括光源、聚光镜、匀光系统、中继透镜组、反射镜、剂量控制单元、掩模，光线经反射镜后分别进入剂量控制单元和掩模，其特征在于在剂量控制单元及掩模前，还具有相同的中继透镜后组，使剂量传感器和掩模上的照度具有很好的线性关系。本发明的光刻照明系统，当需要变换照明模式时，可以不需重新标定剂量控制传感器，从而节省曝光时间，提高产率。

主权项：一种光刻照明系统，包括光源、聚光镜、匀光系统、中继透镜组、反射镜、剂量控制单元、掩模，光线经反射镜后分别进入剂量控制单元和掩模，其特征在于，所述光刻照明系统还包括：第一中继透镜后组，设置在所述反射镜与所述掩模之间；第二中继透镜后组，设置在所述反射镜与所述剂量控制单元之间，所述第一中继透镜后组和所述第二中继透镜后组结构相同，用于使剂量传感器和掩模上的照度具有对应的线性关系。