光取向曝光装置及光取向曝光方法,申请号CN201080070445.7-传众专利搜索

光取向曝光装置及光取向曝光方法

申请公布号：CN103403614A

申请号：CN201080070445.7

申请日期：2010.10.01

申请公布日期：2013.11.20

申请人：

株式会社FK 光实验室;信越工程株式会社;WI-A 公司

发明人：远藤润二;立川洁;川越康弘;内山一荣;大谷义和;尹炯烈;桥诘幸司

分类号：G02F1/1337(2006.01)I

主分类号：G02F1/1337(2006.01)I

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：何欣亭;王忠忠

地址：日本崎玉县新座市

摘要：提供能形成优异特性的取向膜的光取向曝光装置及光取向曝光方法。本发明所涉及的光取向曝光装置1，具备：照射光学系统11，包含偏振光照射单元12和偏振光控制元件14，向表面具有取向膜的基板2照射光束；以及扫描单元15，使基板2或照射光学系统11的至少一部分移动，沿既定的扫描方向对基板2扫描光束，偏振光照射单元12向偏振光控制元件14射出直线偏振光，偏振光控制元件14具有沿与扫描方向正交的方向排列的单位偏振光控制区域，从单位偏振光控制区域照射的光束的偏振方向按每既定数量的单位偏振光控制区域而周期性变化，并且在所述周期内关于与所述扫描方向平行且与所述基板正交的平面大致对称。

主权项：一种光取向曝光装置，其特征在于，具备：照射光学系统，包含偏振光照射单元和偏振光控制元件，向表面具有取向膜的基板照射光束；以及扫描单元，使所述基板或所述照射光学系统的至少一部分移动，沿既定的扫描方向对所述基板扫描所述光束，所述偏振光照射单元向所述偏振光控制元件射出直线偏振光，所述偏振光控制元件具有沿与所述扫描方向正交的方向排列的单位偏振光控制区域，从所述单位偏振光控制区域射出的光束的偏振方向按每既定数量的单位偏振光控制区域而周期性变化，并且在所述周期内关于与所述扫描方向平行且与所述基板正交的平面大致对称。