基板处理装置,申请号TW096133920-传众专利搜索

基板处理装置

申请号：TW096133920

申请日期：2007.09.11

申请公布日期：2011.07.21

申请人：

大网板制造股份有限公司

发明人：基村雅洋

分类号：H01L21/304;B08B3/08

主分类号：H01L21/304

代理人：陈长文台北市松山区敦化北路201号7楼

地址：日本

主权项：一种基板处理装置，其系处理基板者，其特征为包含：处理槽，其系储存氟系溶剂之液体者；处理室，其系收容前述处理槽者；保持机构，其系于前述处理室内，在保持基板之状态下，在基板配置于前述处理槽内的第1位置与配置于前述处理槽上方的第2位置之间移动者；及气体供应机构，其系使保持着基板之前述保持机构从前述第1位置往前述第2位置移动，将氟系溶剂之气体供应至保持于前述保持机构之基板者，而该基板系在前述第1位置已被氟系溶剂之液体处理者。如请求项1之基板处理装置，其中更包含：开闭机构，其系在前述处理室内，使收容前述处理槽之第1空间对收容移动至前述第2位置之前述保持机构的第2空间进行开闭者；及开闭控制机构，其系保持着基板之前述保持机构移动至前述第1位置之情形时及保持着基板之前述保持机构移动至前述第2位置之情形时，控制前述开闭机构，以切断前述第1空间与前述第2空间，当保持着基板之前述保持机构在前述第1位置与前述第2位置之间移动之情形时，控制前述开闭机构，以连通前述第1空间与前述第2空间者。如请求项1之基板处理装置，其中将前述处理槽作为第1处理槽；将前述保持机构作为第1保持机构；且更包含：第2处理槽，其系储存处理液者；第1供应机构，其系将作为处理液之纯水供应至前述第2处理槽者；第2供应机构，其系将作为处理液之酒精供应至前述第2处理槽内，而第2处理槽系储存着作为处理液之纯水之状态者；第2保持机构，其系在保持基板之状态下，于基板配置于前述第2处理槽内的位置与前述第2处理槽上方的位置之间移动者；及搬送机构，其系从前述第2保持机构接受基板，往前述处理室搬送，并将基板交给前述第1保持机构者。如请求项1之基板处理装置，其中更包含：第1供应机构，其系将纯水供应至前述处理槽者；第2供应机构，其系将酒精供应至前述处理槽者；及第3供应机构，其系将储存于前述处理槽之氟系溶剂之液体供应至前述处理槽者。如请求项4之基板处理装置，其中前述第2供应机构系将酒精供应至储存着纯水之状态的前述处理槽内者。如请求项4之基板处理装置，其中前述第3供应机构系将氟系溶剂之液体供应至储存着酒精之状态的前述处理槽内者。如请求项3或4之基板处理装置，其中前述酒精系包含异丙醇、乙醇或甲醇者。如请求项1之基板处理装置，其中前述氟系溶剂系包含氢氟醚或氢氟烷者。