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用于制造石英膜的设备

申请公布号:CN1807295B

申请号:CN200510119147.3

申请日期:2005.12.24

申请公布日期:2010.11.03

申请人:
慧萌高新科技有限公司

发明人:高桥直行;中村高远;野中智;久保义德;神力洋一;玉贯胜美

分类号:H01L21/31(2006.01)I

主分类号:H01L21/31(2006.01)I

代理机构:
中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人:杨松龄

地址:日本东京都

摘要:用于制造石英膜的设备,包括反应容器、基板保持器、第一气体入口管和第二气体入口管,该反应容器由石英制成并设置有气体出口,该基板保持器设置在该反应容器中(基板保持器可选地放置在屏蔽缸体中,该屏蔽缸体沿着反应容器的内表面设置在反应容器中,其中屏蔽缸体具有一内表面,该内表面由对气态氧化硅不活泼的材料制成),该第一气体入口管通过其外侧端连接到盛有硅醇盐源的容器上,并具有面对基板或平板的内侧端,该基板将固定到基板保持器上,该平板间隔一空间环绕基板,该第二气体入口管通过其外侧端连接到盛有含氧气源的容器上,并具有面对基板或平板的内侧端,该基板将固定到基板保持器上,该平板间隔一空间环绕基板,该空间小于基板和第一气体入口管的内侧端之间的空间。

主权项:用于制造石英膜的设备,包括反应容器、基板保持器、第一气体入口管和第二气体入口管,该反应容器由石英制成并设置有气体出口,该基板保持器设置在该反应容器中,该第一气体入口管通过其外侧端连接到盛有硅醇盐源的容器上,第一气体入口管并具有面对基板或平板的内侧端,该基板将固定到基板保持器上,该平板间隔一空间环绕基板,该第二气体入口管通过其外侧端连接到盛有含氧气源的容器上,第二气体入口管并具有面对基板或平板的内侧端,该基板将固定到基板保持器上,该平板间隔一空间环绕基板,该空间小于基板和第一气体入口管的内侧端之间的空间。

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