基板处理装置
申请公布号:CN100565792C
申请号:CN200710112065.5
申请日期:2007.06.22
申请公布日期:2009.12.02
发明人:原田明
分类号:H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I
主分类号:H01L21/00(2006.01)I
代理人:徐 恕
地址:日本京都府京都市
摘要:本发明提供一种基板处理装置,防止处理液经过基板向处理室外漏出。基板处理装置包括搬送机构(1)、具有向基板(S)供给显影液而对基板实施显影处理的处理室(121)的显影处理部(12)以及对它们进行控制的控制器(60)。在显影处理部内的上游侧的开口部(15)附近,配设有能够检测基板的搬送状态的检测机构(7)。另外,在显影处理部旁边的上游侧配设有流出阻止装置(20),该流出阻止装置具有能够对基板供给从上游侧吹向下游侧的高压气体的气体喷嘴(21)。当基于检测机构对基板的搬送状态的检测结果判断为基板在开口部(15)的位置停滞时,控制器使流出阻止装置动作,从而防止处理液经由基板而向处理室漏出。
主权项:1.一种基板处理装置,其包括有处理室,该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置,并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液,从而对该基板实施给定的处理,其特征在于,包括:检测装置,其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近,并对基板的移动速度进行检测;判定装置,其在所述检测装置所检测出的移动速度为给定的速度以下时,判定所述基板停滞;控制装置,其在判定为所述基板停滞时,控制所述处理液供给装置停止所述处理液的供给。
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