离子源及电浆处理装置,申请号TW095133073-传众专利搜索

离子源及电浆处理装置

申请公布号：TW200714742

申请号：TW095133073

申请日期：2006.09.07

申请公布日期：2007.04.16

申请人：

爱发科股份有限公司

发明人：佐佐木德康;清水三郎;国部利寿

分类号：C23C16/513(2006.01);C23C16/54(2006.01)

主分类号：C23C16/513(2006.01)

代理人：洪武雄;陈昭诚

地址：日本

摘要：本发明提供一种可实现长寿命且稳定之电浆之形成的离子源及电浆处理装置。本发明之离子源，系于用以区隔电浆产生室(14)之由电介质所组成之间隔壁(15)的外周侧设置有高频天线(16)，于电浆产生室(14)内系设置有由电介质所组成之遮蔽体(26)，该遮蔽体(26)系用以限制膜附着至与高频天线(16)对向的间隔壁(15)内周面。于此遮蔽体(26)，系于横切高频天线(16)的卷绕方向之方向形成有狭缝(26a)。藉由此构成，可防止附着膜于高频天线的卷绕方向连续成膜于间隔壁的内面，因此即使附着膜为导电性物质时，亦可有效地抑制高频天线与电浆产生室之间的感应损失。此外，由于系以电介质构成该构造体，因此可抑制与电浆之感应耦合时所需的高频电力的增大。