液体喷射头，液体喷射装置，制造液体喷射头的方法,申请号CN200610004298.9-传众专利搜索

液体喷射头，液体喷射装置，制造液体喷射头的方法

申请公布号：CN1814448A

申请号：CN200610004298.9

申请日期：2006.01.12

申请公布日期：2006.08.09

申请人：

索尼株式会社

发明人：冨田学;牛滨五轮男;萱场慎二;江口武夫

分类号：B41J2/135(2006.01);B41J2/04(2006.01);B41J2/14(2006.01);B41J2/16(2006.01);B41J2/165(2006.01)

主分类号：B41J2/135(2006.01)

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：马高平;杨梧

地址：日本东京都

摘要：一种液体喷射头，包括：液体腔，其构造为容纳将要从喷嘴喷出的液体；包括该喷嘴的液体喷射构件；以及能量产生元件，其构造为将能量提供到容纳在该液体腔内的该液体。该能量产生元件从该喷嘴将容纳在该液体腔内的该液体喷射为液滴。围绕该喷嘴在该液体喷射构件的表面上形成凹陷，使得该凹陷的开口具有大于该喷嘴的开口的宽度的宽度，并且该喷嘴设置在该凹陷的底部。将该凹陷的底角的内角确定为大于90度。

主权项：1.一种液体喷射头，包括：液体腔，其构造为容纳将要从喷嘴喷出的液体；包括该喷嘴的液体喷射构件；以及能量产生元件，其构造为将能量提供到容纳在该液体腔内的该液体，利用该能量产生元件，从该喷嘴将容纳在该液体腔内的该液体喷射为液滴；其中，在围绕该喷嘴的该液体喷射构件的表面上形成凹陷，使得该凹陷的开口具有大于该喷嘴的开口的宽度的宽度，并且该喷嘴设置在该凹陷的底部，并且其中该凹陷的底角的内角大于90度。