微影装置,申请号TW088109907-传众专利搜索

微影装置

申请公布号：TWI233536

申请号：TW088109907

申请日期：1999.06.14

申请公布日期：2005.06.01

申请人：

艾斯门石版印刷公司

发明人：阿诺真布里克

分类号：G03F7/00

主分类号：G03F7/00

代理人：陈长文台北市松山区敦化北路201号7楼

地址：荷兰

摘要：一种微影装置，其例如使用电子束使一辐射敏感层曝光于一基体上而形成一光罩上之图案，该光罩包含图案区和不透明支撑件。该装置在该图案区之边缘利用一可变形状光束以提供均匀曝光，同时避免照射到该不透明支撑件。

主权项：1.一种微影投影装置,其用以将一光罩(MA;20;30)内之光罩图案扫描映照在一具备对辐射敏感层之基体(W)上,该光罩(MA;20;30)至少有一可透射区域(1;31;41)至少在扫描方向内藉由不透明区域(2;32)界定,该装置包含:一照射系统,其包含一带电粒子源LA及一照明系统用以产生一包含带电粒子之照明束且控制该照明束扫描该不透明区域(2;32)间之可透射区域(1;31;41);一第一可动物件台(MT),其具备一光罩支架以支承一光罩(MA;20;30);一第二可动物件台(WT),其具备一基体支架以支承一基体(W);及一投影系统(PL),其用以将该光罩(MA;20;30)之一辐照部分映照在该基体(W)之一标靶部分;其特征为:该照明系统作成产生包含带电粒子之照明束,并在某一不透明区域(2;32)附近产生一较窄光束以开始扫描,藉此在维持于该不透明区域(2;32)附近之同时增加该光束之宽度,并使该光束朝其他不透明区域(2;32)扫描,藉此在基体(W)上产生大致均匀曝光。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该照明系统作成在扫描末端当该光束接近该其他不透明区域时,减少该光束之宽度同时使该光束与该其他不透明区域相邻。3.如申请专利范围第1项或第2项之装置,其中该照明系统作成大致上避免照明到该不透明区域。4.如申请专利范围第1项之装置,其中该照明系统作成使该光束之宽度变化以大致等于该可透射区域受扫描之速度线性进行。5.如申请专利范围第1项之装置,其中该光罩包含一光栅,该光栅藉由撑架分隔为复数长条形次场域,该可透射区域包含该等次场域且该不透明区域包含该等撑架。6.如申请专利范围第5项之装置,其中该照明系统作成沿该等次场域之长度扫描,且该装置尚包含横向扫描装置以垂直于该等次场域扫描该光罩和基体。7.如申请专利范围第6项之装置,其中该照明系统作成在该横向扫描装置作业之间扫描一次场域之长度复数次。8.如申请专利范围第1项之装置,其中该照明系统包含第一和第二成型孔及移开该第一成型孔影像之第一偏转装置,藉此控制该照明束之宽度。9.如申请专利范围第8项之装置,其中该照明系统尚包含第二偏转装置以移开该光罩上之照明束。10.如申请专利范围第8项或第9项之装置,其中该照明系统尚包含第一聚焦装置以将一第一成型孔影像投影到该第二成型孔之平面上。11.如申请专利范围第1项之装置,其中该投影系统包括依据该投影束宽度或流量受控制之投影聚焦装置。12.如申请专利范围第1项之装置,其中该照明系统在光罩处具有六角形横截面,且该照明系统作成平行于该扫描方向变化该照明束宽度。图式简单说明:图1为一依据本发明第一实施例之微影投影装置;图2A至G绘出本发明照明扫描粒子束之侧影;图3至5为具有不同偏转器作用之依据本发明照明系统简图;图6和7为一光栅之局部简图,其显示出可用于本发明之扫描排列;图8A和8B为一基体之局部简图,其显示出可用于本发明之他种光束形状和扫描体系。