缺陷检查之罩幕适应技术,申请号TW089115449-传众专利搜索

缺陷检查之罩幕适应技术

申请公布号：TW581865

申请号：TW089115449

申请日期：2000.08.01

申请公布日期：2004.04.01

申请人：

应用物质股份有限公司

发明人：哈密特艾格哈金

分类号：G01N21/88;G06T5/50;H01L21/66

主分类号：G01N21/88

代理人：蔡清福台北市中正区忠孝东路一段一七六号九楼

地址：美国

摘要：一个二度空间分布图以绘制测试影像像素之灰阶与参考影像相对应像素之灰阶而得到，施用杂讯减少过滤器于分布图以定义罩幕形状，其可被取出或填充以产生罩幕。在测试影像上的缺陷像素以与罩幕相对应像素之灰阶值比较而确认。典型的应用为在元件制造期间侦测在半导体晶圆的缺陷。

主权项：1.一种侦测缺陷的方法,包括下列过程: (a.)提供要检查物体的第一影像及伴随的第二影像 ; (b.)随第二影像排列第一影像; (c.)以绘制第一影像像素的灰阶与第二影像相对应像素的灰阶产生第一图; (d.)以过滤该第一图产生第二图; (e.)产生一罩幕,该罩幕具由该第二图形状定义的轮廓;及 (f.)使用该罩幕以侦测出现在第一影像的缺陷。2. 根据申请专利范围第1项的方法,其中过滤以形态过滤器进行。3.根据申请专利范围第1项的方法,其中该罩幕的范围为使用者可调整的。4.根据申请专利范围第1项的方法,更进一步包括使用移动平均过滤器以平滑该罩幕轮廓。5.根据申请专利范围第1项的方法,其中该第二影像得自资料库。6.根据申请专利范围第1项的方法,更进一步包括储存过程(c)及(d)的图形于电脑可读媒体。7.一种电脑可读记录媒体,用以储存进行申请专利范围第1项的方法之程式。8.一种电脑可读记录媒体,包括: 许多记忆体位置,其包含表示第一影像及伴随的第二影像的资料,该第一及第二影像皆具许多像素, 每一个像素由位置座标及灰阶定义;及一个由许多记忆体位置组成的阵列,此记忆体位置储存定义该罩幕的资料,该罩幕由过滤第一影像像素的灰阶与第二影像相对应像素的灰阶的图而产生。9.根据申请专利范围第8项的电脑可读记录媒体,其中通滤以形态过滤器执行。10.根据申请专利范围第8项的电脑可读记录媒体,其中使用移动平均演算法以平滑自第一影像像素的灰阶与第二影像像素的灰阶的图。图式简单说明: 第一图表示先前技艺的缺陷侦测方法。第二图表示灰阶的一度空间矩形图。第三图表示本发明具体实施例的步骤。第四图A至第四图C表示根据本发明的排列步骤。第五图表示根据本发明的二度空间分布图。第六图至第七图表示分别由装置晶圆取得的测试及参考影像。第八图表示根据本发明的二度空间分布图。第九图A至第九图B表示使用形态过滤器于第八图所示的二度空间分布图上的结果。第十图A至第十图C表示根据本发明的一度空间距离轮廓。第十一图表示根据本发明的罩幕。第十二图表示重叠于未过滤二度空间分布图的一个罩幕。第十三图表示使用由罩幕适应得到的晶圆侦测图。第十四图表示重叠于未过滤二度空间分布图的预定底限。第十五图表示使用由预定底限得到的晶圆侦测图。