Metal film pattern and manufacturing method thereof

申请公布号：US2003207567(A1)

申请号：US20030454599

申请日期：2003.06.05

申请公布日期：2003.11.06

申请人：

SHARP KABUSHIKI KAISHA;MELTEX, INC.;SUMITOMO OSAKA CEMENTO CO., LTD.

发明人：IZUMI YOSHIHIRO;CHIKAMA YOSHIMASA;KAWASHIMA SATOSHI;HASHIMOTO TAKAHARU;YOSHIKAWA ITSUJI;ISHIKAWA MASAAKI

分类号：C23C18/31;C23C18/06;C23C18/12;C23C18/16;C23C18/34;C23C18/36;C23C20/08;C23C28/00;G02F1/1362;H01L21/288;H01L27/12;H01L29/45;H01L29/49;H01L29/786;H05K3/24;(IPC1-7):H01L21/44

主分类号：C23C18/31

摘要：A SnO2 film having a prescribed pattern feature is formed on a substrate by a wet film-formation technology (e.g., sol-gel method). A Ni film is formed on the SnO2 film by an electroless plating method. The electroless plating method is conducted in the presence of at least one sulfur-containing compound selected from the group consisting of thiosulfates, thiocyanates and sulfur-containing organic compounds.

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