Tinta para impressão em baixo relevo curada por uv,申请号BR20020205392-传众专利搜索

Tinta para impressão em baixo relevo curada por uv

申请公布号：BR0205392(A)

申请号：BR20020205392

申请日期：2002.05.15

申请公布日期：2003.06.10

申请人：

SICPA HOLDING S.A

发明人：PATRICK VEYA;OLIVIER AMREIN;ALEXIA CHRISTINAT

分类号：B41M1/10;B41M3/00;C09D11/10;C09D11/101;G03F7/004;(IPC1-7):C09D11/10;B42D15/00

主分类号：B41M1/10

摘要：<p>"TINTA PARA IMPRESSãO EM BAIXO RELEVO CURADA POR UV". Composição de impressão em baixo relevo compreendendo um primeiro composto aglutinante selecionado do grupo de oligómeros de acrilatos solúveis em água ou diluíveis em água e opcionalmente, um segundo composto aglutinante monomérico selecionado do grupo compreendendo monómeros de diacrilato de PEG ou triacrilato de poliol polietoxilado solúveis em água ou diluíveis em água para ajustar a viscosidade da composição de tinta. é incluído um fotoiniciador para iniciar a polimerização dos compostos aglutinantes através de irradiação por radiação eletromagnética ou radiação por raios de elétrons. Podem estar presentes aditivos opcionais adicionais, tais como pigmentos, cargas fotossensibilizadores, estabilizadores, emulsificantes, e pigmentos de segurança. A tinta apresenta excelente removabilidade e permite precipitação na solução removedora.</p>