在铝基材上制成蛫色阳极薄膜之方法,申请号TW06412246-传众专利搜索

在铝基材上制成蛫色阳极薄膜之方法

申请公布号：TW021617

申请号：TW06412246

申请日期：1975.11.01

申请公布日期：1977.03.01

申请人：

理研轻金属工业株式会社

发明人：池谷正志;尾崎雅通;高桥俊郎

分类号：C25D3/44

主分类号：C25D3/44

代理人：林敏生台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼

地址：日本静冈巿曲金3丁目2番1号

主权项：1﹒一种在铝基材表面生成色阳极皮膜之方法,其步骤包括将该铝材浸置于含硫酸之电解浴中,并对该铝材施以一具有尖电压25-45伏特及脉冲宽度5-70毫秒之电压脉冲。2﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其中该电压脉衡之脉冲频率与脉冲宽度之比系介于2及7之间者。3﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其进一步之特征系在于其电流密度在2-8A/dm^2者。4﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其中该电解浴之温度系9-25℃者。5﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其中该硫酸电解浴中乃添加有可增加其尖电压之电阻控制剂者。6﹒如请求专利部份第5项之方法,其中该电阻控制用系甘油,而其在电解浴中之含量系5-50重量%者。7﹒如请求专利部份第5项之方法,其中该电阻控制用系铝离子(AI+++),而其在电解浴中之含量系5克/公升以下。8﹒如请求专利部份第5项之方法,其中该电阻控制剂系草酸,而其在电解浴中含量系7重量%以下;9如请求专利部份第1项所述之方法,其中该铝基材系含有锌及镁,而比锌与镁之含量比(Zn/Mg)系5以下。