RETICULE FOR REDUCTION PROJECTION ALIGNER

申请公布号：JPH04177347(A)

申请号：JP19900306916

申请日期：1990.11.13

申请公布日期：1992.06.24

申请人：

NEC YAMAGUCHI LTD

发明人：KAWACHI TOSHIHIKO

分类号：G03F1/68;G03F1/70;H01L21/027

主分类号：G03F1/68

摘要：PURPOSE:To dispense with any change of a reticule in the case where a circuit for a semiconductor memory is changed, by setting up an element pattern after dividing it into plural blocks. CONSTITUTION:An opening of the aligner is regulated and a pattern 2 alone is transferred, forming a pattern 5 for a cell block, successively using the pattern 3 in the same method, and a pattern 6 for a peripheral circuit block is formed. Subsequently an element pattern per IC chip is formed after a cell block 7, peripheral circuit blocks 8 and 9 and dicing allowance 10 are connected to one another through three transfers in total. With this constitution, a desired pattern alone can be transferred to a wafer, thus the extent of recording volume per chip is alterable without changing a reticule.

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