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A DEVELOPER SOLUTION FOR POSITIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITIONS

申请公布号:GB2193335(A)

申请号:GB19870015459

申请日期:1987.07.01

申请公布日期:1988.02.03

申请人:
* TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

发明人:HATSUYUKI * TANAKA;YOSHIYUKI * SATO;HIDEKATSU * KOHARA;TOSHIMASA * NAKAYAMA

分类号:G03C1/72;G03F7/00;G03F7/30;G03F7/32;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/26

主分类号:G03C1/72

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